การประยุกต์ใช้อีพ็อกซี่เรซิน cycloaliphatic.

เรซินอีพ็อกซี่ไซโคลอลิปปาติกสามารถรับปฏิกิริยาโฟโตพอลิเมอไรเซชันประจุบวกและปฏิกิริยาของพวกเขากาว UV แบบดัดได้มีข้อดีเช่นการหดตัวในปริมาณต่ำการยึดเกาะที่แข็งแรงและทนต่อสภาพอากาศได้ดี โดยเฉพาะอย่างยิ่งเมื่อใช้ในระบบโฟโตพอลิเมอไรเซชันไฮบริดที่มีประจุลบฟรีพวกมันสามารถซิงค์กับผลิตภัณฑ์ที่บ่มด้วยอนุมูลอิสระซึ่งเสริมจุดแข็งและจุดอ่อนของกันและกัน แต่มีประสิทธิภาพช่วยเพิ่มความเร็วในการบ่มแต่ยังช่วยให้สามารถใช้กับ oligomers มากขึ้นและเจือจางปฏิกิริยาทำให้มันใช้กันอย่างแพร่หลายในการเคลือบ photopolymer, หมึก, กาวอิเล็กทรอนิกส์, การพิมพ์3D, และวัสดุอื่นๆ

เพื่อให้การสนับสนุนด้านเทคนิคดีขึ้นและเข้าใจการประยุกต์ใช้เรซินอีพ็อกซี่ไซโคลาไลซ์ในระบบโฟโตพอลิเมอไรเซชันไฮบริดหัวรุนแรงฟรี Tatra Selected TTA-21 (3,4เอบีเอส) เป็นผลิตภัณฑ์ cationic หายสำหรับการเปรียบเทียบคุณสมบัติของผลิตภัณฑ์ที่หายไปกับอีพ็อกซี่อะคริเลตและเจือจางปฏิกิริยาบางอย่าง โฟโตอินดิเตอร์ประจุบวกที่ใช้คือเกลือไทโอล (UV-692ทาร์ต) และเกลือไอโอดีน (UV-694ทาร์ต) และโฟโตรีเนซิเตอร์หัวรุนแรงที่ใช้คือ1-hydroxycyclohexyl ฟีนิลคีโตน (โฟโต้อินดิเตอร์184)

คุณสมบัติทางกายภาพของวัสดุที่บ่มมีดังนี้:

ข้อดีหลักของระบบบ่มด้วยแสงผสมกับเรซินอีพ็อกซี่ cycloaliphatic:

1.อัตราการแปลงสูงของกลุ่มอีพ็อกซี่ใน cycloaliphatic EPOXY Resin

ฟรี photoinitiators หัวรุนแรงไวต่อแสงประจุบวกเพิ่มอัตราการใช้ประโยชน์ของ photoinitiators ประจุบวก

นอกจากนี้ส่วนประกอบที่รุนแรงฟรียังให้ไฮโดรเจนที่ออกฤทธิ์มากขึ้นสำหรับส่วนประกอบประจุบวกในขณะที่ลดผลกระทบของความชื้นต่อส่วนประกอบประจุบวกซึ่งจะช่วยเร่งการสร้างกรดโพรโทนิก จำนวนศูนย์ที่ใช้งานประจุบวกเพิ่มขึ้นและอัตราการเกิดปฏิกิริยาและองศาเพิ่มขึ้นเช่นกัน

2.ความต้านทานแรงดึงสูงของเรซินอีพ็อกซี่ cycloaliphatic.

ระบบผสมมีทั้งพอลิเมอไรเซชันที่รุนแรงและปฏิกิริยา cationic polymerization ฟรี ปฏิกิริยาพอลิเมอไรเซชันรุนแรงฟรีนั้นรวดเร็วและสามารถสร้างโครงสร้างโครงกระดูกโพลีเมอร์ที่แข็งภายใต้แสงได้อย่างรวดเร็ว ต่อมาอีพ็อกซี่เรซินไซโคลอลิฟาติกยังคงมีความยืดหยุ่นและ Crosslink บนพื้นฐานโครงสร้างโครงกระดูกนี้ผ่านปฏิกิริยาพอลิเมอไรเซชันประจุบวกทำให้เกิดโครงสร้างรอง โครงสร้างทั้งสองถูกถักทอและพันกันทำให้โครงสร้างมีโอกาสน้อยที่จะเสียหายภายใต้แรงภายนอกและห้ามใช้ความต้านทานแรงดึงสูง

3.การหดตัวของเรซินอีพ็อกซี่ cycloaliphatic.

เมื่อ prepolymers และ monomers ได้รับพอลิเมอร์ที่รุนแรงฟรีระยะห่างระหว่างพวกเขาจะเปลี่ยนจากระยะห่างของ Van der Waals ก่อนที่จะบ่มไปยังระยะทางพันธะโควาเลนต์หลังจากการบ่มทำให้เกิดการหดตัวในปริมาณมากและก่อให้เกิดปัญหาเช่นความเครียดภายในขนาดใหญ่และการยึดเกาะที่ไม่ดี เมื่อสารประกอบอีพ็อกซี่ได้รับพอลิเมอไรเซชันในการเปิดวงแหวนประจุบวกระยะห่างระหว่างโมเลกุลของโมโนเมอร์จะเปลี่ยนแปลงจากระยะห่างของ Van der Waals ไปยังระยะทางพันธะ covalent หลังจากการบ่มซึ่งนำไปสู่การหดตัวของปริมาตร ในทางกลับกันขนาดหน่วยโครงสร้างที่เกิดจากพอลิเมอไรเซชันการเปิดวงแหวนประจุบวกของโมโนเมอร์อีพ็อกซี่มีขนาดใหญ่กว่าโมเลกุลโมโนเมอร์ส่งผลให้มีการขยายตัวของปริมาตร การรวมกันของทั้งสองผลกระทบนี้ส่งผลให้มีการหดตัวในปริมาณที่น้อยลงในระหว่างการแข็งตัวของสารประกอบอีพ็อกซี่ในระบบบ่มแสงผสม Radical-cationic ฟรีกว่าในระบบบ่มแสงแบบสแตนด์อโลนฟรี

การประยุกต์ใช้อีพ็อกซี่เรซินไซโคลอลิฟาติกในระบบการบ่มด้วยแสงแบบผสมให้ทางเลือกและความเป็นไปได้มากขึ้นสำหรับการวิจัยการบ่มด้วยรังสียูวีและเคลือบ UV ประจุบวกเทคโนโลยีและการพัฒนาวัสดุใหม่พิเศษด้วยเรซินอีพ็อกซี่พิเศษ.ค่าาา